[发明专利]无碱玻璃基板及无碱玻璃基板的减薄方法

摘要

本发明涉及一种无碱玻璃基板，其为通过氢氟酸(HF)蚀刻处理减薄了5μm以上的、板厚为0.4mm以下的无碱玻璃基板，上述无碱玻璃基板为规定的无碱玻璃，减薄后的上述无碱玻璃基板的比模量为31MNm/kg以上，光弹性常数为30nm/MPa/cm以下。

主权项

一种无碱玻璃基板，其为通过氢氟酸(HF)蚀刻处理减薄了5μm以上的、板厚为0.4mm以下的无碱玻璃基板，所述无碱玻璃基板为下述无碱玻璃，减薄后的所述无碱玻璃基板的比模量为31MNm/kg以上，光弹性常数为30nm/MPa/cm以下，所述无碱玻璃的应变点为680～735℃，在50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10^‑7～43×10^‑7/℃，玻璃粘度达到10²dPa·s时的温度T₂为1710℃以下，玻璃粘度达到10⁴dPa·s时的温度T₄为1310℃以下，以基于氧化物的摩尔％计含有：MgO+CaO+SrO+BaO为15.5～21，MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.35以上，CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下，SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下。