[发明专利]用于压印结构的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201480065137.3 申请日: 2014-10-22
公开(公告)号: CN105745575B 公开(公告)日: 2019-12-17
发明(设计)人: D.特雷布迈尔 申请(专利权)人: EV集团E·索尔纳有限责任公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;B29C43/02;B29C59/02
代理公司: 72001 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 成城;宣力伟
地址: 奥地利圣*** 国省代码: 奥地利;AT
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摘要: 发明涉及一种用于使用具有至少一个压印结构(2)的模具(1)来压印至少一个微结构或纳米结构的方法,所述方法包含以下步骤,具体地以下顺序:相对于剂量给料装置(4)使模具(1)的压印结构(2)定向,借助于剂量给料装置(4)将印制材料(6)剂量给料至压印结构(2)中,至少部分地固化印制材料(6),以及压印该印制材料(6)。所述方法的特征在于,至少在剂量给料步骤中,压印结构(2)指向重力方向(G)。本发明还涉及一种对应装置。
搜索关键词: 用于 压印 结构 方法 装置
【主权项】:
1.一种用于使用具有至少一个压印结构(2)的压印模(1)在载体衬底(3)上压印具有至少一个微结构或纳米结构的单透镜(9)的方法,所述方法具有以下步骤:/n- 将计量给料装置(4)放置在所述压印模(1)和所述载体衬底(3)之间,/n- 使所述压印模(1)的所述压印结构(2)在所述计量给料装置(4)对面并且指向重力方向(G)对准,/n- 借助于所述计量给料装置(4)平行且与所述重力方向(G)相反地将压印材料(6)计量给料至所述压印结构(2)中,/n- 至少部分地硬化所述压印材料(6)和压印所述压印材料(6),/n其特征在于,凸出的压印材料表面(6o)通过重力被形成为沿所述载体衬底(3)的方向,其中,所述压印模(1)通过所述凸出的压印材料表面(6o)沿所述载体衬底(3)的方向的接近实现所述压印材料与所述载体衬底(3)的点接触,其中,由于所述压印模(1)沿所述载体衬底(3)的方向的另一接近,所述凸出的压印材料表面(6o)与所述载体衬底的接触表面持续地扩大。/n
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