[发明专利]光学布置、尤其是等离子体光源或EUV光刻设备

摘要

本发明涉及光学组件，尤其是等离子体光源(1′)或EUV光刻系统，包含：壳体(2)，其包围内壳空间(3)；真空生成单元，用于在上述壳体(2)中产生真空；至少一个表面(13)，布置在所述内壳空间(3)中；清洁装置(15)，用于移除沉积在所述表面(13)上的污染物质(14)；以及观察装置(25)，用于观察所述表面(13)，其中，所述观察装置(25)具有能够朝着所述表面(13)取向的观察光学单元(26)。所述清洁装置(15)设计为通过释放CO₂颗粒(17)形式的CO₂移除沉积的污染物质(14)。

主权项

1.光学布置，具有壳体(2)，其包围内壳空间(3)，真空生成单元(12)，用于在所述壳体(2)中产生真空，至少一个表面(13)，其布置在所述内壳空间(3)中，以及清洁装置(15)，用于移除沉积在所述表面(13)上的污染物质(14)，所述清洁装置(15)设计为通过释放CO2颗粒(17)形式的CO2来移除沉积的污染物质(14)，以及监控装置(25)，用于监控所述表面(13)，所述监控装置(25)具有能够被引导至所述表面(13)上的监控光学系统(26)，其中，所述清洁装置(15)具有将所述CO2颗粒(17)供应给所述表面(13)的供应装置(35)，所述供应装置(35)包含供应线(19)，所述供应线具有用于释放所述CO2颗粒(17)的出口开口(20)，所述供应线(19)具有用于将所述出口开口(20)引导至所述表面(13)的不同点的至少一个柔性线部分(21)，其中，所述监控装置(25)包含图像传输线(27)，所述监控光学系统(26)安装在所述图像传输线上，所述图像传输线(27)具有用于将所述监控光学系统(26)引导至所述表面(13)的不同点的至少一个柔性线部分(28)，以及其中，所述供应线(19)和所述图像传输线(27)布置为彼此接近，至少部分地彼此连接。