[发明专利]超导体和制造该超导体的方法有效
| 申请号： | 201480060913.0 | 申请日： | 2014-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN105706187B | 公开（公告）日： | 2017-07-11 |
| 发明（设计）人： | 崔圭汉;文胜铉;黄淳哲;李宰勋;张彻荣;权雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社瑞蓝 |
| 主分类号： | H01B12/06 | 分类号： | H01B12/06;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 翟然 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及超导体和制造该超导体的方法。该超导体包括带形式的基板，具有由顶表面、底表面和两个侧表面纵向限定的表面；超导层，位于基板的顶表面上；金属材料的第一稳定层，位于超导层的顶表面上；金属材料的保护层，位于第一稳定层的顶表面上，其中由第一稳定层的金属和保护层的金属的合金形成的合金层进一步包括在该稳定层与保护层之间。 | ||
| 搜索关键词： | 超导体 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种超导体，包括：基板，具有在第一方向上延伸的带形状并且具有被限定为顶表面、底表面和两个侧表面的表面；超导层，设置在所述基板的所述顶表面上；第一稳定层，设置在所述超导层上并且包含第一金属；保护层，设置在所述第一稳定层上并且包含不同于所述第一金属的第二金属；第一合金层，设置在所述第一稳定层和所述保护层之间，并且包含所述第一金属和所述第二金属；第二稳定层，设置在所述保护层上；低熔点金属层，设置在所述保护层和所述第二稳定层之间，所述低熔点金属层包含不同于所述第一金属和所述第二金属的第三金属；以及设置在所述保护层和所述低熔点金属层之间的第二合金层，所述第二合金层包含所述第二金属和所述第三金属。
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