[发明专利]识别物质的存在

摘要

一种用于识别样品中的至少一种掺杂物物质的存在的方法。该方法包括：接收一组样品光谱数据、一组参考光谱数据、多组验证光谱数据以及所述至少一种掺杂物物质的一组掺杂物物质光谱数据，每组验证光谱数据用于一个相应的验证实例。从这些光谱数据，确定代表将在样品光谱数据和参考光谱数据之间执行最小二乘法拟合过程之后剩余的残数的残数数据，并且确定代表将在样品光谱数据、参考光谱数据和掺杂物物质光谱数据之间执行最小二乘法拟合过程之后剩余的残数的修改的样品残数数据。对于每个验证实例，还确定对应的两个残数数据组。该方法然后包括在样品残数数据、修改的样品残数数据、验证残数数据以及修改的验证残数数据之中执行至少一次比较；以及根据所述至少一次比较来确定在所述样品中所述至少一种掺杂物物质的存在的可能性值；以及输出所述可能性值。

主权项

1.一种用于识别样品中的至少一种掺杂物物质的存在的方法，包括如下步骤：接收针对一个样品所获取的一组样品光谱数据，接收一组参考光谱数据，接收多组验证光谱数据，每组验证光谱数据用于一个相应的验证实例，接收所述至少一种掺杂物物质的一组掺杂物物质光谱数据；确定代表将在所述样品光谱数据和所述参考光谱数据之间执行最小二乘法拟合过程之后剩余的残数的样品残数数据；确定代表将在一方面所述样品光谱数据与另一方面所述参考光谱数据和所述掺杂物物质光谱数据之间执行最小二乘法拟合过程之后剩余的残数的修改的样品残数数据；对于每个验证实例，确定代表将在相应实例的验证光谱数据和参考光谱数据之间执行最小二乘法拟合过程之后剩余的残数的验证残数数据；对于每个验证实例，确定代表将在一方面相应实例的验证光谱数据与另一方面参考光谱数据和掺杂物物质光谱数据之间执行最小二乘法拟合过程之后剩余的残数的修改的验证残数数据；在所述样品残数数据、所述修改的样品残数数据、所述验证残数数据以及所述修改的验证残数数据之中执行至少一次比较；根据所述至少一次比较来确定所述样品中的所述至少一种掺杂物物质的存在的可能性值；以及输出所述可能性值。