[发明专利]布置在流体化床反应器容器中的具有低驻留时间气室的漩涡分离组合件

摘要

本发明提供一种漩涡反应器容器，其包括：主要漩涡分离装置，其安置在外壳内且具有出口；多个二级漩涡分离器，所述二级漩涡分离器安置在所述外壳内，且所述二级漩涡分离器中的每一个都具有主体、入口和出口；其中所述主要漩涡分离装置的所述出口连接到至少一个二级漩涡分离器的所述入口；第一气室，其具有在所述外壳内形成密封环形腔室的边缘和底部，第二气室，其具有比所述第一气室的体积更小的体积；以及二级漩涡分离器支撑系统，其使机械热应力最小化或消除机械热应力；并且其中所述多个二级漩涡分离器的所述出口流体地连接到所述第二气室。

主权项

1.一种根据本发明的漩涡反应器容器，其包括：外壳；主要漩涡分离装置，其安置在所述外壳内且具有出口；多个二级漩涡分离器，所述二级漩涡分离器安置在所述外壳内，且所述二级漩涡分离器中的每一个都具有主体、入口和出口；其中所述主要漩涡分离装置的所述出口连接到至少一个二级漩涡分离器的所述入口，使得流体流可以从所述主要漩涡分离装置的所述出口流动到所述至少一个二级漩涡分离器的所述入口中；第一气室，其具有在所述外壳内形成密封环形腔室的边缘和底部，其中所述第一气室通过附接到所述外壳而被支撑在所述外壳内；第二气室，其具有用于从所述外壳内去除气体的出口管、边缘以及底部，且具有比所述第一气室的体积更小的体积；以及二级漩涡分离器支撑系统，其包括选自由以下各项组成的群组的至少一个机制：(a)每个二级漩涡分离器的所述出口管到所述第一气室的所述边缘和/或底部的附接以及(b)从所述第一气室边缘和/或第一气室底部和/或二级漩涡分离器出口管道延伸到每个二级漩涡分离器的所述主体的第一组吊带，其中所述第一组吊带大体上竖直地放置在所述外壳内，大体上竖直地意指：吊带与从吊带到第一气室的附接点悬挂的铅垂仪之间的角度等于或小于30°；以及其中所述多个二级漩涡分离器的所述出口流体地连接到所述第二气室。