[发明专利]经由能量校准的散射拒绝方法有效
| 申请号： | 201480051295.3 | 申请日： | 2014-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN105556340B | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | T·L·劳伦斯;S·X·王 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/164 | 分类号： | G01T1/164 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供了一种医学核成像系统(10)和对应的方法(100)。多个像素(20、24)探测辐射事件并且估计探测到的辐射事件的能量。存储器(58)存储多个能量窗(44)，所述能量窗与所述像素相对应。事件验证模块(56)利用与探测像素相对应的所述能量窗来对所述辐射事件进行窗处理。重建处理器(60)将经窗处理的辐射事件重建为图像表示。 | ||
| 搜索关键词： | 经由 能量 校准 散射 拒绝 方法 | ||
【主权项】：
1.一种医学核成像系统(10)，包括：多个像素(20、24)，其被配置为探测辐射事件并且估计探测到的辐射事件的能量；存储器(58)，其被配置为存储多个能量窗(44)，所述能量窗与所述像素相对应；事件验证模块(56)，其被配置为利用与探测像素相对应的所述能量窗来对所述辐射事件进行窗处理；能量校准模块(62)，其被配置为：接收与所述多个像素(20、24)相对应的校准能量谱，所述校准能量谱是利用来自校准体模的伽马光子生成的；将所述校准能量谱与高斯曲线拟合；将趋势线拟合到所述校准能量谱的所述高斯曲线的两侧；并且根据所拟合的趋势线来确定低水平鉴别算子LLD和高水平鉴别算子ULD，所述LLD和所述ULD限定所述能量窗(44)；以及重建处理器(60)，其被配置为将经窗处理的辐射事件重建为图像表示。
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