[发明专利]干涉式激光处理有效
申请号: | 201480050865.7 | 申请日: | 2014-07-22 |
公开(公告)号: | CN106102899B | 公开(公告)日: | 2019-09-03 |
发明(设计)人: | 凯蒂·库马尔;李奎庆;野上纯;彼得·R·赫尔曼 | 申请(专利权)人: | 凯蒂·库马尔;李奎庆;野上纯;彼得·R·赫尔曼 |
主分类号: | B01J19/12 | 分类号: | B01J19/12;B23K26/354;B23K26/36;B23K26/40 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;王艳春 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本公开涉及材料的激光诱导修饰和处理的领域。通过将激光‑材料相互作用限制到表征光学干涉轮廓的窄区域的阵列内来实现修饰。公开了一种材料的激光诱导修饰的方法,该方法包括:将至少一个激光脉冲施加至材料,该至少一个激光脉冲入射至材料的第一界面上,其中材料是基于材料能够支持光学干涉图案而选择的,以使得光学干涉图案的至少一个强度极大值的位点处的薄体积以在阈值之上的激光强度为特征,从而在相对于第一界面的位置处响应地产生材料的激光诱导修饰。 | ||
搜索关键词: | 干涉 激光 处理 | ||
【主权项】:
1.材料的激光诱导修饰方法,包括:将至少一个激光脉冲施加至所述材料,所述材料具有第一界面,所述至少一个激光脉冲入射至所述第一界面上,其中所述至少一个激光脉冲具有入射角,以及其中所述材料是基于所述材料能够支持在所述材料的内部形成的光学干涉图案而选择的,以使得在所述光学干涉图案的至少一个强度极大值的位点处的薄体积以在阈值之上的激光强度为特征,从而在相对于所述第一界面在所述材料的内部的至少一个深度级的位置处响应地产生所述材料的激光诱导修饰。
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