[发明专利]用于低压系统的低渗漏密封件有效

专利信息
申请号: 201480037320.2 申请日: 2014-04-21
公开(公告)号: CN105378398B 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: V.M.西什特拉 申请(专利权)人: 开利公司
主分类号: F25B41/00 分类号: F25B41/00;F16L17/06;F16L17/10;F16L19/02;F16L23/16;F16L23/18;F16J15/00;F16J15/46
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 谭佐晞,张昱
地址: 美国康*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种被配置用在冷冻机制冷系统中的包括第一凸缘和第二凸缘的密封件。所述第一凸缘和所述第二凸缘同轴对准并且直接接触。所述第二凸缘包括其内定位有第一密封机构和第二密封机构的至少一个沟槽。所述第一密封机构和所述第二密封机构隔开一定距离,使得在所述第一密封机构和所述第二密封机构之间形成被配置成接收加压气体的腔室。
搜索关键词: 用于 低压 系统 渗漏 密封件
【主权项】:
一种被配置用在冷冻机制冷系统中的密封件,其包括:第一凸缘;以及第二凸缘,所述第二凸缘与所述第一凸缘轴向对准并且直接接触,所述第二凸缘包括其内定位有第一密封机构和第二密封机构的至少一个沟槽,所述第一密封机构和所述第二密封机构隔开一定距离,使得在所述第一密封机构和所述第二密封机构之间形成被配置成接收加压气体的腔室。
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