[发明专利]磨料颗粒、制备磨料颗粒的方法以及磨料制品有效
| 申请号： | 201480035399.5 | 申请日： | 2014-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN105324211B | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 斯科特·R·卡勒;摩西·M·戴维;迈肯·吉沃特;彼得·S·施塔赫 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B24D3/14 | 分类号： | B24D3/14;B24D11/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 王静;丁业平 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备磨料颗粒的方法，所述方法包括使陶瓷颗粒暴露于有机硅烷衍生的等离子体以形成等离子体改性的陶瓷颗粒，所述有机硅烷衍生的等离子体由包含有机硅烷和氧的组分形成；以及使偶联剂与所述第二等离子体处理的陶瓷颗粒接触以提供所述磨料颗粒。本发明还公开了可通过所述方法制备的磨料颗粒，以及包含所述磨料颗粒的磨料颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 磨料颗粒 陶瓷颗粒 有机硅烷 等离子体 制备磨料颗粒 等离子体处理 等离子体改性 磨料制品 偶联剂 制备 暴露 | ||
【主权项】：
1.磨料颗粒，每个磨料颗粒包括：陶瓷芯，其中所述陶瓷芯不包含二氧化硅；壳层，所述壳层至少部分地包封所述陶瓷芯，其中所述壳层包含硅酸盐层，所述硅酸盐层包含硅、氧和氢，并且其中所述壳层包含硅醇基团；以及通过偶联剂与所述硅醇基团的至少一部分缩合而形成的至少一个残基。
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