[发明专利]用于无接触地光学确定穿透位置的测量框架及配属的测量方法

摘要

本发明涉及一种用于无接触地光学确定弹头(134)通过目标面(102)的穿透位置的测量框架(106)。此外本发明还涉及一种配属的测量和分析方法。此外本发明涉及一种显示系统，该显示系统使用至少一个这样的测量框架(106)。测量框架包括至少一个第一辐射源(120)，用于发射第一发散辐射场；至少一个第二辐射源，用于发射第二发散辐射场，其中，第一和第二辐射场在垂直于穿透方向的平面中交叉成角；以及至少一个第一光学接收器装置(126)和至少一个第二光学接收器装置(126')，该至少一个第一光学接收器装置和至少一个第二光学接收器装置分别配设于所述至少一个第一辐射源和第二辐射源。光学接收器装置中的每个具有光学接收器元件阵列，光学接收器元件是这样可被分析，使得确定由于待探测弹头的空间扩展遮光位置。

主权项

一种用于无接触地光学确定弹头通过目标面的穿透位置的测量框架，其中，测量框架包括：至少一个第一辐射源，用于发射第一发散辐射场；至少一个第二辐射源，用于发射第二发散辐射场，其中，第一和第二辐射场在垂直于穿透方向的平面中交叉成角；至少一个第一光学接收器装置和至少一个第二光学接收器装置，该至少一个第一光学接收器装置和至少一个第二光学接收器装置分别配设于所述至少一个第一辐射源和第二辐射源；其中，光学接收器装置中的每个具有光学接收器元件阵列，光学接收器元件可操作为测量接收到的辐射强度，使得确定由于待探测弹头的空间扩展遮光位置，以及其中，所述测量框架包括至少一个发射器板，所述至少一个发射器板包括带有在辐射方向上变大的板孔直径的相继的板孔，以成形由辐射源发射的辐射场。