[发明专利]聚阴离子系正极活性物质复合物颗粒的制造方法和聚阴离子系正极活性物质前体-氧化石墨复合造粒物在审
| 申请号： | 201480029305.3 | 申请日： | 2014-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN105229831A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 玉木荣一郎;久保田泰生;川村博昭;松下未幸 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | H01M4/58 | 分类号： | H01M4/58;H01M4/36 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 马倩;刘力 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 以往的聚阴离子系正极活性物质-石墨烯复合物颗粒的石墨烯与聚阴离子系正极活性物质的接触面积小，无法获得高导电性。本发明为聚阴离子系正极活性物质复合物颗粒的制造方法，其具备如下工序：工序1：将聚阴离子系正极活性物质前体与氧化石墨进行混合，从而形成在氧化石墨中包含聚阴离子系正极活性物质前体颗粒的前体复合造粒物的工序；工序2：将工序1中得到的前体复合造粒物在不活性气氛或还原气氛下以500℃以上进行加热的工序，该前体复合造粒物的X射线衍射强度中，基于正极活性物质的X射线衍射峰的最大强度相对于基于正极活性物质以外的X射线衍射峰的最大强度不足50%，该聚阴离子系正极活性物质复合物颗粒的X射线衍射强度中，基于正极活性物质的X射线衍射峰的最大强度相对于基于正极活性物质以外的X射线衍射峰的最大强度为50%以上。 | ||
| 搜索关键词： | 聚阴离子 正极 活性 物质 复合物 颗粒 制造 方法 氧化 石墨 复合 造粒物 | ||
【主权项】：
聚阴离子系正极活性物质复合物颗粒的制造方法，其具备如下工序：工序1：将聚阴离子系正极活性物质前体与氧化石墨进行混合，从而形成在氧化石墨中包含聚阴离子系正极活性物质前体颗粒的前体复合造粒物的工序；工序2：将工序1中得到的前体复合造粒物在不活性气氛或还原气氛下以500℃以上进行加热的工序，该前体复合造粒物的X射线衍射强度中，基于正极活性物质的X射线衍射峰的最大强度相对于基于正极活性物质以外的X射线衍射峰的最大强度不足50%，该聚阴离子系正极活性物质复合物颗粒的X射线衍射强度中，基于正极活性物质的X射线衍射峰的最大强度相对于基于正极活性物质以外的X射线衍射峰的最大强度为50%以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽株式会社，未经东丽株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480029305.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
