[发明专利]使用压电微量天平传感器的装置和方法在审
申请号: | 201480027623.6 | 申请日: | 2014-02-18 |
公开(公告)号: | CN105209885A | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | 狄美特·L·库兹涅索夫;J·E·胡特斯;亚瑟·J·卡海安;罗德尼·H·班克斯;大卫·安布罗斯 | 申请(专利权)人: | 埃科莱布美国股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;F17D5/02;F25B49/02;G01B7/16 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 张瑞;郑霞 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了用于监测含水工业工艺中结垢沉积的方法。在某些实施方案中,含水工业工艺是含水冷却系统。在某些实施方案中,所述方法与压电微量天平传感器一起并入荧光监测和控制技术。压电微量天平传感器的特定的实施方案与用于采用不依赖是否利用荧光监测和控制技术的特定的实施方案的至少一种方法一起被另外公开。 | ||
搜索关键词: | 使用 压电 微量 天平 传感器 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种监测含水冷却系统中的工艺出错和恢复的自动化方法,所述自动化方法包括:提供包括冷却水的含水冷却系统;提供荧光计;提供能够自清洁的压电微量天平传感器;提供中央控制系统;可操作地将所述荧光计和所述压电微量天平传感器连接至所述含水冷却系统和所述中央控制系统;将选自由以下组成的组的至少一种水溶性、阻垢的化学品在一定剂量速率下给料到所述冷却水中:天然发荧光处理化学品、荧光标记的处理化学品、已经被荧光示踪的处理化学品、及其组合,从而导致在所述冷却水中一定浓度的所述至少一种水溶性、阻垢的化学品;用所述荧光计使用荧光计地测量所述冷却水中的所述至少一种水溶性、阻垢的化学品中的至少一种的所述浓度;利用所述压电微量天平传感器测量所述冷却水的结垢率;响应于所述荧光测量和所测量的结垢率中的至少一种调整所述含水冷却系统的至少一个工艺变量;其中所述至少一个工艺变量选自由以下组成的组:所述至少一种水溶性、阻垢的化学品的剂量速率;冷却水循环速率;阀门开度;流速;体积;液位;所述冷却水的pH;卸料循环频率;警报的引发;警告的引发;以及其组合。
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