[发明专利]可抵抗背景和皮肤杂波的微波成像在审
| 申请号： | 201480021721.9 | 申请日： | 2014-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN105120756A | 公开（公告）日： | 2015-12-02 |
| 发明（设计）人： | Y·龙尼茨;R·梅拉梅;S·摩西 | 申请（专利权）人： | 沃伊亚影像有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈松涛;王英 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 以色列;IL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种微波成像传感器，其可抵抗背景和皮肤杂波。抵抗性通过在不对微波天线阵列或受试者进行机械移动下消除皮肤反射、通过利用来自其它天线的反射并补偿传播差异得到。消除考虑对于不同对在不同时间点的反射的预期强度，以使对图像，尤其对对称目标的图像重建的影响最小。 | ||
| 搜索关键词： | 抵抗 背景 皮肤 微波 成像 | ||
【主权项】：
一种提高物体的微波成像的方法，其包括：收集发射天线和接收天线的多组合的微波响应；进行估计皮肤反射，其中对一对天线的估计是基于在测量期间从另一对天线接收的信号；基于所述估计，消除皮肤反射；以及所述消除后由校正信号产生图像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沃伊亚影像有限公司，未经沃伊亚影像有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480021721.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
