[发明专利]聚酰胺酸、包含聚酰胺酸的清漆及聚酰亚胺膜有效
| 申请号： | 201480019213.7 | 申请日： | 2014-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN105189623B | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 福川健一;冈崎真喜;坂田佳广;浦上达宣;大久保敦 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;B32B27/34;C08G73/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;涂琪顺 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种将厚度方向的相位差Rth控制在所期望的范围、且透明性高的聚酰亚胺膜、及用于获得该聚酰亚胺膜的聚酰胺酸、清漆。为了解决上述课题，制成一种聚酰亚胺膜，其包含使四羧酸二酐及二胺反应而成的聚酰亚胺，(a)厚度方向的相位差Rth每10μm厚度为‑5nm以上100nm以下，(b)波长为400nm的光线透射率为80％以上，(c)雾度为3％以下，且(d)玻璃化转变温度为250℃以上。 | ||
| 搜索关键词： | 聚酰胺 包含 清漆 聚酰亚胺 | ||
【主权项】：
1.一种聚酰亚胺膜，其包含使四羧酸二酐及二胺反应而成的含有相对于全部重复单元的数量10％以上的下述通式(1)所示的重复单元的聚酰亚胺：![]()
通式(1)中，X为选自由![]()
及![]()
所组成的组中的基团，Y为选自由![]()
及![]()
所组成的组中的基团，(a)利用下述式算出的厚度方向的相位差Rth每10μm厚度为‑5nm以上100nm以下，(b)波长为400nm的光线透射率为80％以上，(c)雾度为3％以下，且(d)玻璃化转变温度为250℃以上，相位差Rth(nm)＝[nz‑(nx+ny)/2]×d此处，nx为利用波长为550nm的光测定的所述聚酰亚胺膜的X轴方向的折射率；ny为利用波长为550nm的光测定的所述聚酰亚胺膜的Y轴方向的折射率；nz为利用波长为550nm的光测定的所述聚酰亚胺膜的Z轴方向的折射率；d为所述聚酰亚胺膜的厚度。
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