[发明专利]气体制造装置有效
申请号: | 201480018716.2 | 申请日: | 2014-03-19 |
公开(公告)号: | CN105102683B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 佐藤尚俊 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社;人工光合成化学工艺技术研究组合 |
主分类号: | C25B9/00 | 分类号: | C25B9/00;C25B11/04;C25B11/08;H01L31/04 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本气体制造装置具有元件层叠体,其串联地层叠有多个元件,所述多个元件形成有具备pn结的半导体薄膜,该元件层叠体在一方具有受光部,在另一方具有导电性基板;氢气生成部,其形成于处于受光部侧的第1元件的正面;包含氢气生成部的第1电解室;形成于导电性基板的背面的氧气生成部;包含氧气生成部的第2电解室;以及设置于第1电解室与第2电解室之间的具有离子透过性和非透气性的隔膜。 | ||
搜索关键词: | 气体 制造 装置 | ||
【主权项】:
一种气体制造装置,其特征在于,该气体制造装置具有:元件层叠体,其是将多个元件以串联连接的方式层叠而得到的,所述多个元件各自具有受光部,并形成有具备pn结的半导体薄膜;氢气生成部,其形成于所述多个元件中的、处于所述元件层叠体的一个端部的第1元件的正面,生成氢气;第1电解室,其包含所述氢气生成部,收纳与所述氢气生成部接触的电解水溶液、和所生成的氢气;氧气生成部,其形成于所述多个元件中的、处于所述元件层叠体的另一个端部的第2元件的形成有所述半导体薄膜的导电性基板的背面,生成氧气;第2电解室,其包含所述氧气生成部,收纳与所述氧气生成部接触的电解水溶液、和所生成的氧气;以及具有离子透过性和非透气性的隔膜,其设置于所述第1电解室与所述第2电解室之间,所述第1元件由多个副元件构成,这多个副元件相对于所述第2元件离散地配置在该第2元件上。
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