[实用新型]一种显微式厚膜电路曝光对膜装置有效

专利信息
申请号: 201420799068.6 申请日: 2014-12-17
公开(公告)号: CN204256373U 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 夏勇年;洪学毅;陈刚 申请(专利权)人: 珠海市华晶微电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 赵蕊红
地址: 519015 广东省珠海市南山*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种显微式厚膜电路曝光对膜装置,设置有工作台、两套以上的显微成像装置、与每套显微成像装置对应设置的位置调节装置、显示装置和真空抽吸装置;所述工作台设置有工作区,所述真空抽吸装置与工作区连通,所述显微成像装置位于所述工作区上方,所述显示装置与所述显微成像装置电连接。每套位置调节装置设置有Z向固定杆、X向固定杆、Y向固定杆、第一联接调节座和第二联接调节座。显微式厚膜电路曝光对膜装置可以对微小尺寸的对位标识图案进行准确对位,能够适应电子产品小型化趋势下各种微小孔的曝光显影制备,具有精确度高,结构简单、操作方便的特点。
搜索关键词: 一种 显微 式厚膜 电路 曝光 装置
【主权项】:
一种显微式厚膜电路曝光对膜装置,其特征在于:设置有工作台、两套以上的显微成像装置、与每套显微成像装置对应设置的位置调节装置、显示装置和真空抽吸装置;所述工作台设置有工作区,所述真空抽吸装置与工作区连通,所述显微成像装置位于所述工作区上方,所述显示装置与所述显微成像装置电连接。
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