[实用新型]发光装置和投影装置有效
| 申请号： | 201420738714.8 | 申请日： | 2014-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN204479898U | 公开（公告）日： | 2015-07-15 |
| 发明（设计）人： | 杨毅 | 申请（专利权）人： | 杨毅 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G02B27/48 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518048 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 提出一种发光装置和投影装置，包括激光光源和散射反射装置，该散射反射装置包括至少一个凹陷，凹陷内壁具有散射反射属性；还包括分光装置，该分光装置的分光面上包括两个区，透射区和反射区；其中，激光光源发出的激光透射分光装置的透射区并入射于散射反射装置的至少一个凹陷内，激光在该凹陷内散射反射后出射，其中大部分入射于分光装置的反射区并被其反射而形成发光装置的出射光。利用本实用新型的发光装置，利用激光在凹陷内壁的多次散射反射，使其充分的混合以消除相干性。同时还利用入射的激光和散射后的激光在准直性上的差别而将散射后的激光从光路中分离出来形成出射光。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 投影 | ||
【主权项】：
一种发光装置，其特征在于：包括激光光源和散射反射装置，该散射反射装置包括至少一个凹陷，凹陷内壁具有散射反射属性；还包括分光装置，该分光装置的分光面上包括两个区，透射区和反射区；其中，激光光源发出的激光透射分光装置的透射区并入射于散射反射装置的至少一个凹陷内，激光在该凹陷内散射反射后出射，其中大部分入射于分光装置的反射区并被其反射而形成发光装置的出射光。
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