[实用新型]一种研磨垫清洁装置有效
| 申请号： | 201420390677.6 | 申请日： | 2014-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN203973387U | 公开（公告）日： | 2014-12-03 |
| 发明（设计）人： | 魏红建 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/007 | 分类号： | B24B53/007 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种研磨垫清洁装置，所述装置至少包括：至少两个研磨盘；每个研磨盘的背面均设有一端固定于该研磨盘的轴；所述轴的另一端通过一枢纽结构共同连接于一手臂的一端；所述每个研磨盘正面分别具有不同的粗糙度。本实用新型的所述研磨垫清洁装置对研磨后的研磨垫采用具有不同切削率的研磨盘进行清洗，对不同切削率的研磨盘适时地进行切换使用，改变了现有技术中在一个研磨盘使用寿命结束后对其进行更换的方式，因此，本实用新型的研磨垫清洁装置对研磨垫进行了及时的修复，避免了因研磨盘使用寿命的限制而给研磨垫带来的清洗不良并导致的晶圆损坏，提高了产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 清洁 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨垫清洁装置，其特征在于，所述装置至少包括： 至少两个研磨盘；每个研磨盘的背面均设有一端固定于该研磨盘的轴；所述轴的另一端通过一枢纽结构共同连接于一手臂的一端；所述每个研磨盘正面分别具有不同的粗糙度。
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