[实用新型]一种双层静电场描绘仪有效

专利信息
申请号: 201420380911.7 申请日: 2014-07-10
公开(公告)号: CN203966411U 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 杨桂考;张晴;张洪海;韦艳;任永强;陈丽 申请(专利权)人: 杨桂考
主分类号: G09B23/18 分类号: G09B23/18
代理公司: 石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙) 13115 代理人: 刘闻铎
地址: 221000 江苏省徐州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种双层静电场描绘仪,手柄座采用双滑槽结构,“米”字形滑槽限制上层打点探针,在“米”字的各边带有精确到1mm的刻度尺,实验时可直接读出各等势点到中心的距离,上层探针换采用铅笔,在导电介质上刻画坐标轴及一组同心圆。该设计避免了粗大误差的引入,既能提高实验的精确度,又确保了实验的准确性和可重复性。
搜索关键词: 一种 双层 静电场 描绘
【主权项】:
一种双层静电场描绘仪,包括手柄座(1)、探针手柄(2)、探针(3)、描绘板(4)、导电介质(5)、描绘板支架(6),探针(3)固定于探针手柄(2)的前端,描绘板支架(6)为上下两层,描绘板(4)位于描绘板支架(6)的上层,探针手柄(2)、探针(3)均为两个,分为上层、下层两组,导电介质(5)为镀有ITO膜的导电玻璃、位于描绘板支架(6)的下层,其特征在于,所述手柄座(1)为双滑槽结构,滑槽为上下两个、平行设置,并且在同一竖直面上,滑槽的一端固定于立柱上,所述探针手柄(2)固定于竖直的固定轴上,固定轴两端分别位于滑槽内,位于描绘板支架上层的描绘板上设置有“米”字形探针滑槽,同时“米”字的各边带有精确到1mm的刻度尺。
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