[实用新型]曝光机真空密封夹有效
申请号: | 201420355409.0 | 申请日: | 2014-06-30 |
公开(公告)号: | CN203965799U | 公开(公告)日: | 2014-11-26 |
发明(设计)人: | 连大学 | 申请(专利权)人: | 深圳市卓力达电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 黄良宝 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 曝光机真空密封夹,涉及到曝光机真空密封夹技术领域。解决现有的曝光机真空密封夹的上框架采用麦拉膜存在菲林在抽真空吸气时发生形变时偏位,造成品质异常的技术不足,包括有铰接的上框架和下框架,下框架上设有玻璃台面,上框架与下框架之间设有密封垫圈和气弹簧,在下框架上设有抽真空吸气口;其特征在于:所述的上框架上设有与下框架上的玻璃台面对应的光学玻璃。本实用新型把上框架上的麦拉膜换成光学玻璃,这样在吸气过程中,真空泵在抽曝光机真空密封夹中的空气时,玻璃这种刚性材料不会发生形变,不会对菲林造成影响,巧妙的解决了抽真空造成的菲林偏位的问题,提高了产品品质。 | ||
搜索关键词: | 曝光 真空 密封 | ||
【主权项】:
曝光机真空密封夹,包括有铰接的上框架和下框架,下框架上设有玻璃台面,上框架与下框架之间设有密封垫圈和气弹簧,在下框架上设有抽真空吸气口;其特征在于:所述的上框架上设有与下框架上的玻璃台面对应的光学玻璃。
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