[实用新型]瓦斯检测用气室有效
| 申请号： | 201420283773.0 | 申请日： | 2014-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN203881676U | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 汪涵;蒋继平 | 申请（专利权）人： | 常州信息职业技术学院 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 汤婷 |
| 地址： | 213164 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种瓦斯检测用气室，具有本体，本体内部设有测试腔；所述本体的上端和下端分别设有与测试腔相通的出气口和进气口；所述本体的侧面设有入射孔和出射孔，入射孔与出射孔中均设有自聚焦透镜；所述测试腔内壁上相对设有两片带反射曲面的第一镜片和第二镜片；所述第一镜片和第二镜片的反射曲面上均涂有高反介质膜。本实用新型由于具有很高的反射率，很小的光损耗和拉长的光程，确保了气室在用于检测时的可靠性和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 瓦斯 检测 用气室 | ||
【主权项】：
一种瓦斯检测用气室，具有本体，本体内部设有测试腔(1)；其特征在于：所述本体的上端和下端分别设有与测试腔(1)相通的出气口(2)和进气口(3)；所述本体的侧面设有入射孔(4)和出射孔(5)，入射孔(4)与出射孔(5)中均设有自聚焦透镜；所述测试腔(1)内壁上相对设有两片带反射曲面的第一镜片(6)和第二镜片(7)；所述第一镜片(6)和第二镜片(7)的反射曲面上均涂有高反介质膜(8)。
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