[实用新型]一种掩模板有效
申请号: | 201420261930.8 | 申请日: | 2014-05-21 |
公开(公告)号: | CN203965796U | 公开(公告)日: | 2014-11-26 |
发明(设计)人: | 郭建 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/44 | 分类号: | G03F1/44 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种掩模板,掩模板上设有预设图形,在所述预设图形相对的两侧分别设有第一测试图形,所述第一测试图形用于确定所述掩模板在移动过程中产生的位置偏移的大小。本实用新型提供的掩模板,在其沿由第一测试图形所在的预设图形的第一侧至与第一册相对的第二侧的方向移动标准距离时,可以通过检测移动后的位于预设图形第一侧的第一测试图形与移动前的位于预设图形第二侧的第一测试图形之间的相对位置关系,确定掩模板在其移动过程中是否产生位置偏移,并在产生位置偏移时,确定位置偏移的大小,从而可以对掩模板的位置进行校正,进而在玻璃基板上获得准确的特定图形。 | ||
搜索关键词: | 一种 模板 | ||
【主权项】:
一种掩模板,其特征在于,所述掩模板上设有预设图形,在所述预设图形相对的两侧分别设有第一测试图形,所述第一测试图形用于确定所述掩模板在移动过程中产生的位置偏移的大小。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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