[实用新型]一种光刻投影物镜系统波像差测量装置有效
| 申请号: | 201420224944.2 | 申请日: | 2014-05-04 |
| 公开(公告)号: | CN203882092U | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
| 发明(设计)人: | 卢增雄;齐月静;苏佳妮;丁功明;周翊;王宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电研究院 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
| 地址: | 100094 北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 一种光刻投影物镜系统波像差测量装置,该装置主要由准分子激光器、扩束棱镜、匀光聚焦物镜系统、光纤耦合物镜、多模光纤、成像物镜、照明掩模板、准直物镜及夏克-哈特曼波前传感器组成;其中,从准分子激光器输出的狭长的矩形光斑经扩束棱镜扩束后得到方形光斑,方形光斑经过匀光聚焦物镜系统和光纤耦合物镜后被耦合入多模光纤中;由多模光纤出射的发散球面波经成像物镜后成像到照明掩模板上产生多个球面波,这些球面波经过投影物镜系统后携带其波像差信息,再经过准直物镜后成为平面波,平面波被夏克-哈特曼波前传感器的微透镜阵列分成多个子光束,这些子光束聚焦到夏克-哈特曼波前传感器的探测器上,测得投影物镜系统的波像差信息。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 光刻 投影 物镜 系统 波像差 测量 装置 | ||
【主权项】:
一种光刻投影物镜系统波像差测量装置,其特征在于,该装置包括:准分子激光器(10)、扩束棱镜(20)、匀光聚焦物镜系统(30)、光纤耦合物镜(40)、多模光纤(50)、成像物镜(60)、照明掩模板(70)、准直物镜(80)以及夏克‑哈特曼波前传感器(90);其中,所述准分子激光器(10)、所述扩束棱镜(20)、所述匀光聚焦物镜系统(30)及所述光纤耦合物镜(40)依次设置于所述多模光纤(50)的一端,从所述准分子激光器(10)输出的狭长的矩形光斑经过所述扩束棱镜(20)扩束后得到方形光斑,所述方形光斑经过所述匀光聚焦物镜系统(30)和所述光纤耦合物镜(40)后被耦合入所述多模光纤(50)中;在所述多模光纤(50)的另一端依次设置所述成像物镜(60)、所述照明掩模板(70)、所述准直物镜(80)及所述夏克‑哈特曼波前传感器(90),由所述多模光纤(50)出射的发散球面波经过所述成像物镜(60)后成像到所述照明掩模板(70)上产生多个球面波,这些球面波经过待测投影物镜系统(100)后携带其波像差信息,再经过所述准直物镜(80)后成为携带波像差信息的平面波,所述平面波被所述夏克‑哈特曼波前传感器(90)的微透镜阵列分成多个子光束,这些子光束聚焦到所述夏克‑哈特曼波前传感器(90)的探测器上,测得所述待测投影物镜系统(100)的波像差信息。
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