[实用新型]一种磁性流体密封装置的真空通道结构有效
申请号: | 201420166762.4 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN203796962U | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 小林宏之 | 申请(专利权)人: | 埃慕迪磁电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | F16J15/43 | 分类号: | F16J15/43 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 冯子玲 |
地址: | 200333 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种磁性流体密封装置的真空通道结构,包括同轴壳体、磁密封部件、回转轴和轴承,所述磁密封部件设在回转轴的两侧,所述轴承设在磁密封部件的两端,还包括由真空接口、L型管路、磁密封隔圈、2组磁密封部件、真空出口构成的L型真空通道结构;本实用新型的有益效果为:此种结构可使得磁流体密封的应用更加广泛,磁密封效果更好。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁性 流体 密封 装置 真空 通道 结构 | ||
【主权项】:
一种磁性流体密封装置的真空通道结构,包括同轴壳体(10)、磁密封部件(20)、回转轴(30)和轴承(40),所述磁密封部件(20)设在回转轴(30)的两侧,所述轴承(40)设在磁密封部件(20)的两端,其特征在于:还包括由真空接口(51)、L型管路(52)、磁密封隔圈(53)、2组磁密封部件(20)、真空出口(54)构成的L型真空通道结构(50)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃慕迪磁电科技(上海)有限公司,未经埃慕迪磁电科技(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420166762.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种空间机械臂基座零扰动优化控制方法
- 下一篇:照明光学系统和图像投影装置