[实用新型]一种自动曝光机的新型对位框架有效
| 申请号： | 201420128269.3 | 申请日： | 2014-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN203825369U | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 朱晓;许高峰 | 申请（专利权）人： | 高德（苏州）电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 马明渡 |
| 地址： | 215021 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种自动曝光机的新型对位框架，所述自动曝光机包括透明盖板；其特征在于：所述对位框架与所述透明盖板密封定位；所述对位框架上设有若干抽气孔，且该抽气孔上设有滤网。借此结构设计，使得本实用新型对比现有技术而言，灰尘将被所述滤网阻挡，进而阻绝了对底片的污染，确保了底片成像的品质。因此，本实用新型具有结构简单，可靠性高，实用性强的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自动 曝光 新型 对位 框架 | ||
【主权项】：
一种自动曝光机的新型对位框架，所述自动曝光机包括透明盖板；其特征在于：所述对位框架与所述透明盖板密封定位；所述对位框架上设有若干抽气孔，且该抽气孔上设有滤网。
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