[实用新型]电解池、电解池系统和电解池组件有效
| 申请号： | 201420115662.9 | 申请日： | 2014-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN203999841U | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 刘兴华;小D·A·维劳施;F·E·菲尔普斯;J·M·迪尼斯;J·克尔克霍夫;R·A·迪米尔拉 | 申请（专利权）人： | 美铝公司 |
| 主分类号： | C25C3/00 | 分类号： | C25C3/00;C25C7/00;C25C3/06;C25C3/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 林振波 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种电解池系统，包括：被设置用于保留熔融电解液的电解池，所述电解液包括至少一种电解液成分，所述电解池包括底部和由所述至少一种电解液成分构成的侧壁；以及进料系统，被设置用于向熔融电解液提供包括所述至少一种电解液成分的进料，以使所述至少一种电解液成分处于约2％的饱和度以内，其中，侧壁通过所述进料而在熔融电解液内保持稳定。本实用新型还提供了电解池和电解池组件。 | ||
| 搜索关键词： | 电解池 系统 组件 | ||
【主权项】：
一种电解池系统，包括： 被设置用于保留熔融电解液的电解池，所述电解液包括至少一种电解液成分，所述电解池包括： 底部，和 由所述至少一种电解液成分构成的侧壁；以及 进料系统，被设置用于向熔融电解液提供包括所述至少一种电解液成分的进料，以使所述至少一种电解液成分处于2％的饱和度以内， 其中，侧壁通过所述进料而在熔融电解液内保持稳定。
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