[实用新型]高光机排屑机构

摘要

本实用新型提供一种高光机排屑机构，包括加工主轴和加工平台，加工平台位于加工主轴下方，加工平台与一驱动机构连接，驱动机构可带动加工平台沿直线方向来回移动，加工平台的两端均与一可伸缩的防护罩连接，防护罩、加工平台罩住所述驱动机构。该排屑机构在加工平台的两端连接可伸缩的防护罩，防护罩将带动加工平台工作的驱动机构罩住，这样铁屑就不会掉到驱动机构内，该排屑机构在加工平台的两侧还设置有螺旋送料排屑装置，落在加工平台两侧的铁屑会通过该螺旋送料排屑装置向外排出，这样也可有效避免铁屑堆积，也可有效防止铁屑进入到驱动机构内，从而可保证驱动机构正常运行，延长高光机的使用寿命。

主权项

一种高光机排屑机构，包括加工主轴和加工平台，所述加工平台位于所述加工主轴下方，所述加工平台与一驱动机构连接，所述驱动机构可带动所述加工平台沿直线方向来回移动，其特征在于：所述加工平台的两端均与一可伸缩的防护罩连接，所述防护罩、加工平台罩住所述驱动机构。