[实用新型]真空喷涂底座有效

专利信息
申请号: 201420054333.8 申请日: 2014-01-28
公开(公告)号: CN203711210U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 沈忠林 申请(专利权)人: 嘉兴超纳金真空镀膜科技有限公司
主分类号: B05B13/02 分类号: B05B13/02;B05B15/00
代理公司: 嘉兴君度知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 沈志良
地址: 314200 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种真空喷涂底座,包括支撑底座和真空喷涂限位架,真空喷涂限位架设于所述支撑底座的上方,支撑底座包括底座本体,底座本体呈圆环状,所述的底座本体内圈均布有固定片,底座本体上均布有限位架固定孔和工件架固定孔;所述的真空喷涂限位架包括限位架本体,呈圆环状,所述限位架本体包括限位圈和连接杆,连接杆包括内圈连接杆和外圈连接杆,相邻的两个限位圈之间通过一根内圈连接杆和一根外圈连接杆连接,所述的内圈连接杆和外圈连接杆之间设有固定杆,所述的固定杆中部设有支撑底座固定孔。本实用新型结构简单牢固,结构布置更为合理,实现底座驱动固定柱和工件固定架分离,工作时无干扰,真空喷涂设备运行流畅,保证生产效率。
搜索关键词: 真空 喷涂 底座
【主权项】:
一种真空喷涂底座,包括支撑底座和真空喷涂限位架,其特征在于所述的真空喷涂限位架设于所述支撑底座的上方,所述的支撑底座包括底座本体,底座本体呈圆环状,所述的底座本体内圈均布有固定片,底座本体上均布有限位架固定孔和工件架固定孔;所述的真空喷涂限位架包括限位架本体,呈圆环状,所述限位架本体包括限位圈和连接杆,所述的连接杆包括内圈连接杆和外圈连接杆,相邻的两个限位圈之间通过一根内圈连接杆和一根外圈连接杆连接,所述的内圈连接杆和外圈连接杆之间设有固定杆,所述的固定杆中部设有支撑底座固定孔。
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