[实用新型]高整体性过程流体压力测量探头和过程流体压力测量系统有效
| 申请号： | 201420018296.5 | 申请日： | 2014-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN203929311U | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·C·海德克;弗雷德·C·西特勒 | 申请（专利权）人： | 罗斯蒙特公司 |
| 主分类号： | G01L9/12 | 分类号： | G01L9/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汪洋 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种过程流体压力测量探头，所述过程流体压力测量探头包括压力传感器，所述压力传感器由单晶材料形成并安装到第一金属过程流体屏障并被设置成用于与过程流体直接接触。压力传感器具有随着过程流体压力而改变的电气特征。馈通由单晶材料形成并具有从第一端部延伸到第二端部的多个导体。馈通安装到第二金属过程流体屏障并与压力传感器间隔开但电连接到压力传感器。压力传感器和馈通被安装成使得第二金属过程流体屏障通过第一金属过程流体屏障与过程流体隔离。 | ||
| 搜索关键词： | 整体性 过程 流体 压力 测量 探头 系统 | ||
【主权项】：
一种过程流体压力测量探头，其特征在于，该过程流体压力测量探头包括： 压力传感器，所述压力传感器由单晶材料形成并安装到第一金属过程流体屏障且被设置成用于与过程流体直接接触，所述压力传感器具有随着过程流体压力变化的电气特征； 馈通，所述馈通由单晶材料形成并具有从第一端部延伸到第二端部的多个导体，该馈通安装到第二金属过程流体屏障并与压力传感器间隔开但电连接到压力传感器；并且 其中压力传感器和所述馈通被安装成使得第二金属过程流体屏障通过第一金属过程流体屏障与过程流体隔离。
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