[发明专利]一种真空灭弧室横向磁场触头有效

专利信息
申请号: 201410842430.8 申请日: 2014-12-29
公开(公告)号: CN104505300A 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 修士新;王毅;冯顶瑜;刘罡;郑佳欢;于坤 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司61200 代理人: 陆万寿
地址: 710049*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种真空灭弧室横向磁场触头,属于电器技术领域,包括两个导电杆和两个触头片;其中,第一导电杆设置在第一触头片一个端面的中心上,第二导电杆设置在第二触头片一个端面的中心上,第一触头片和第二触头片均在周向均匀开设有若干对开槽,每对开槽均包括两端面开口的第一开槽以及两端面开口且周向开口的第二开槽;使用时,第一触头片和第二触头片上的若干对开槽呈镜像对称设置。本发明触头开槽结构的特殊之处在于它有四对开槽,每对开槽包括第一开槽和第二开槽,并且第一开槽和相邻一对开槽中的第二开槽相互配合使电弧在触头片四分之一的面积内形成了分别适用于不同起弧点的两条电弧运动通路。
搜索关键词: 一种 真空 灭弧室 横向 磁场
【主权项】:
一种真空灭弧室横向磁场触头,其特征在于:包括第一导电杆(1)、第一触头片(2)、第二触头片(3)及第二导电杆(4);其中,第一导电杆(1)设置在第一触头片(2)一个端面的中心上,第二导电杆(4)设置在第二触头片(3)一个端面的中心上,第一触头片(2)和第二触头片(3)均在周向均匀开设有若干对开槽(201),每对开槽(201)均包括两端面开口的第一开槽(202)以及两端面开口且周向开口的第二开槽(203);使用时,第一触头片(2)和第二触头片(3)上的若干对开槽(201)呈镜像对称设置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学;,未经西安交通大学;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410842430.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top