[发明专利]光致酸生成共聚物和相关的光刻胶组合物、涂覆的基材以及形成电子器件的方法

摘要

本发明涉及光致酸生成共聚物和相关的光刻胶组合物、涂覆的基材以及形成电子器件的方法。一种共聚物，其包含源自下组的重复单元：对酸不稳定的单体；脂族、含内酯单体；(甲基)丙烯酸C1‑12烷基酯，其中C1‑12烷基包括具体的碱可溶性基团；包含脂族阴离子的光致酸生成单体；以及具有下式的中性芳族单体：其中，R1、R2、R3、X、m和R5如本文所定义。所述共聚物用作光刻胶组合物的组分。描述了包含所述光刻胶组合物层的涂覆的基材，以及使用所述涂覆的基材形成电子器件的方法。

主权项

1.一种共聚物，其包含源自下组的重复单元：对酸不稳定的单体；脂族、含内酯单体；碱可溶性单体，所述碱可溶性单体包含1,1,1,3,3,3‑六氟‑2‑羟基丙‑2‑基取代基或者‑NH‑S(O)2‑Rb取代基，其中Rb是C1‑4全氟烷基；包含脂族阴离子的光致酸生成单体；其中，所述脂族阴离子具有如下结构：或其组合，其中，Ra是‑H、‑F、‑CH3或‑CF3；以及中性脂族单体，其包括：其中，Ra是‑H、‑F、‑CH3或‑CF3；每个Rc独立地是卤素、C1‑6全氟烷基或C3‑6全氟环烷基；以及q是0、1、2、3、4、5、6、7、8、9或10；或者其中，Ra是‑H、‑F、‑CH3或‑CF3；每个Rc独立地是卤素、C1‑12烃基、C2‑10烯基、C1‑6全氟烷基或C3‑6全氟环烷基；以及每个q独立地是1、2、3、4、5、6、7、8、9或10；或者其中，Ra是‑H、‑F、‑CH3或‑CF3；每个Rc独立地是卤素、C1‑12烃基、C2‑10烯基、C1‑6全氟烷基或C3‑6全氟环烷基；以及每个q独立地是0、1、2、3、4、5、6、7、8、9或10；或者其中，Ra是‑H、‑F、‑CH3或‑CF3；每个Rc独立地是卤素、C1‑12烃基、C2‑10烯基、C1‑6全氟烷基或C3‑6全氟环烷基；Re是C1‑10亚烷基或者C3‑10环亚烷基；i是2、3或4；n是1；以及每个q独立地是0、1、2、3、4、5、6、7、8、9或10；或者其中，Ra是‑H、‑F、‑CH3或‑CF3；每个Rc独立地是卤素、C1‑12烃基、C2‑10烯基、C1‑6全氟烷基或C3‑6全氟环烷基；Rf是C1‑12烷基、C1‑6全氟烷基、C3‑10环烷基或C3‑6全氟环烷基；以及每个q独立地是0、1、2、3、4、5、6、7、8、9或10；或者上述这些的组合，其中，所述共聚物包含的源自所述对酸不稳定的单体的重复单元的量是10‑30重量％，以所述共聚物的总重计。