[发明专利]投影光学系统及投影装置在审
| 申请号： | 201410790291.9 | 申请日： | 2014-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN105759543A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 刘美鸿;母林;纪超超 | 申请（专利权）人： | 深圳市亿思达科技集团有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/00 | 分类号： | G03B21/00;G03B21/14;G02B13/18;G02B13/24 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影光学系统及投影装置。该投影光学系统用于将进入所述投影光学系统的第一图像成像为放大的第二图像，其包括沿光路前后排列的用于将第一图像成像为第一中间像的第一光学系统；用于将第一中间像成像为第二中间像的第二光学系统；位于第二光学系统形成的第二中间像的后方，用于将第二中间像反射，形成放大的第二图像的反射镜。第一光学系统和第二光学系统具有同一主光轴；投影光学系统的透射比为0.2～0.25，焦距为-2.9mm～-3.2mm，第一图像相对于主光轴的偏移量大于120％。本发明能够有效改善像差、且实现了短距离投影大图像。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 装置 | ||
【主权项】：
一种投影光学系统，用于将进入所述投影光学系统的第一图像成像为放大的第二图像，其特征在于，包括沿光路前后排列的：第一光学系统，用于将所述第一图像成像为第一中间像；第二光学系统，用于将所述第一中间像成像为第二中间像；反射镜，位于所述第二光学系统形成的第二中间像的后方，用于将所述第二中间像反射，形成放大的第二图像；所述第一光学系统和所述第二光学系统具有同一主光轴；所述投影光学系统的透射比为0.2～0.25，焦距为‑2.9mm～‑3.2mm，所述第一图像相对于主光轴的偏移量大于120％。
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