[发明专利]一种磁控溅射镀膜用阴极在审
| 申请号： | 201410783685.1 | 申请日： | 2014-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN104532198A | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 李震 | 申请（专利权）人： | 张家港市铭斯特光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫 |
| 地址： | 215623 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射镀膜用阴极，安装在磁控溅射镀膜真空室内，包括安装在真空室侧壁上的靶座、设于靶座正面的靶背板、固设在靶座内腔中的磁体、焊接在靶背板正面的靶材，阴极还包括用于防止靶座与真空室侧壁间泄漏的密封机构，该密封机构包括设于靶座背面的多个密封件、一端固设在靶座背面的锁紧杆，锁紧杆的另一端上还套设有锁紧螺母，锁紧杆沿其轴向依次穿设通过密封件、真空室侧壁后与锁紧螺母相锁紧，锁紧杆在数量上与密封件相等，通过设置密封机构确保了靶座与真空室侧壁间的密封性，降低了真空室内的漏气率、提高了溅射效率，同时通过焊料焊接的方式将靶材固定在靶背板上，简化了阴极的机构，提高了所镀薄膜的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 阴极 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射镀膜用阴极，安装在磁控溅射镀膜真空室内，其特征在于：包括安装在所述真空室侧壁上的靶座、设于所述靶座正面的靶背板、固设在所述靶座内腔中的磁体、焊接在所述靶背板正面的靶材，所述阴极还包括用于防止所述靶座与所述真空室侧壁间泄漏的密封机构，所述密封机构包括设于所述靶座背面的多个密封件、一端固设在所述靶座背面的锁紧杆，所述锁紧杆的另一端上还套设有锁紧螺母，所述锁紧杆沿其轴向依次穿设通过所述密封件、所述真空室侧壁后与所述锁紧螺母相锁紧，所述锁紧杆在数量上与所述密封件相等。
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