[发明专利]一种用于轴瓦上的细Sn相AlSn20Cu涂层及其制备方法

摘要

本发明涉及一种用于轴瓦上的细Sn相AlSn20Cu涂层及其制备方法，与现有技术相比，AlSn20Cu层与AlSn20Cu+Al混合层交替分布，有效地抑制了AlSn20Cu涂层中Sn相组织的长大，且涂层成分的多元化、结构的多层化有效改善了涂层的应力分布，所得涂层中Sn相分布更加细密均匀、显微硬度偏大，提高了Sn相在涂层中的结合强度，大幅度增强了抗疲劳性能；突破了目前轴瓦减摩涂层制备时温度不能高于170℃、涂覆时轴瓦夹具需要水冷的限制，扩大了涂覆工艺参数的调整范围，简化了涂覆设备结构；本发明涂层的制备方法所用靶材廉价易得，工艺稳定、运行成本低，对获得更高品质轴瓦减摩涂层具有较好的适用性。

主权项

一种用于轴瓦上的细Sn相AlSn20Cu涂层，其特征在于：包括磁控溅射沉积而成的AlSn20Cu层和电弧蒸发离子掺镀Al的AlSn20Cu+Al混合层，所述的AlSn20Cu层与AlSn20Cu+Al混合层交替沉积，且每个AlSn20Cu层的厚度为1μm～3μm，每个AlSn20Cu+Al混合层的厚度为0.5μm～1μm。