[发明专利]基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法有效

专利信息
申请号: 201410758476.1 申请日: 2010-09-29
公开(公告)号: CN104360583B 公开(公告)日: 2017-04-19
发明(设计)人: 劝圣勋;郑收恩;李昇娥;张志诚;韩相权 申请(专利权)人: 首尔大学校产学协力团
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 吕俊刚,张旭东
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法。根据本发明的一个实施方式,光刻系统包括布置在基板上的至少一个目标对象;通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器;以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。
搜索关键词: 基于 图像 处理 光刻 系统 目标 对象 方法
【主权项】:
一种涂覆目标对象的方法,所述方法包括:制备基板,所述基板的一个表面上布置有至少一个目标对象;在所述基板和所述目标对象的表面的至少一部分上形成光致抗蚀剂;通过处理所述目标对象的图像形成用于所述目标对象的涂覆层的周壁;以及将树脂提供到由所述周壁围绕的所述基板和所述目标对象的表面的至少部分区域,其中,所述树脂部分地暴露出所述目标对象的表面以形成接触焊盘,其中,所述接触焊盘提供与所述目标对象的导电性。
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