[发明专利]用于成像系统的曝光控制在审
| 申请号： | 201410751738.1 | 申请日： | 2008-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN104618659A | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 杨韵恩;郑苍隆 | 申请（专利权）人： | 坎德拉微系统(S)私人有限公司;郑苍隆 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N5/355 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 杜娟娟;姜甜 |
| 地址： | 新*** | 国省代码： | 新加坡;SG |
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| 摘要： | 一种分析图像的装置。该装置包含一电路，其接收包含多个像素的一图像。该电路创建该图像的一直方图，且分析该直方图以确定该图像的一可接受曝光。该直方图可包含多个区间对应於每一区间的像素数量。举例来说，该等区间可与光强度相关联。该图像和直方图可包含由低动态范围的几个位和/或扩展动态范围的几个位界定的数据。可确定和分析该图像的某些特征和标准以确定该图像是否具有可接受的曝光。如果该图像不可接受，那么可改变一曝光特性且可重复该过程，直到获得一可接受的图像为止。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 系统 曝光 控制 | ||
【主权项】：
一种图像的直方图产生方法，其包括：接收一场景的具有不同曝光的多个低动态范围图像；选择位于所述多个低动态范围图像的最大曝光和最小曝光中间的一曝光；以及从所述多个低动态范围图像产生该场景的对应于该曝光的一低动态范围直方图。
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