[发明专利]磁记录介质及磁记录再现装置在审
| 申请号： | 201410742709.9 | 申请日： | 2014-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN105321536A | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | 岩崎刚之;藤本明 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/733;G11B5/48 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 万利军;陈海红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可获得磁性微粒的良好的晶体取向性和低粒径分散、具有良好的记录再现特性且可以实现高密度记录的磁记录介质以及磁记录再现装置。实施方式的磁记录介质在非磁性基板上具有；取向控制层，其包含具有fcc结构的Ni合金或者Ag合金；非磁性种子层，其包含Ag、Ge和选自包括Al、Mg、Au及Ti的组中的金属X；非磁性中间层，其包含Ru或者Ru合金；以及磁记录层。取向控制层与非磁性种子层接触。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 再现 装置 | ||
【主权项】：
一种磁记录介质，其特征在于，具备：非磁性基板；取向控制层，其形成于该非磁性基板上，包含具有面心立方晶格结构的镍合金或银合金；非磁性种子层，其在该取向控制层上接触而形成，包含银、锗和选自包括铝、镁、金以及钛的组中的至少一种金属X；非磁性中间层，其形成于该非磁性种子层上，包含钌或钌合金；以及磁记录层，其形成于该非磁性中间层上。
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