[发明专利]膜形成方法及膜形成装置有效
申请号: | 201410683427.6 | 申请日: | 2014-11-24 |
公开(公告)号: | CN104907227A | 公开(公告)日: | 2015-09-16 |
发明(设计)人: | 冈本裕司 | 申请(专利权)人: | 住友重机械工业株式会社 |
主分类号: | B05C9/14 | 分类号: | B05C9/14;B05C5/00;B05C11/10 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 温旭;郝传鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种膜形成方法及膜形成装置,该膜形成方法中,即使增加膜厚,侧面的倾斜也不易变平缓。沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘,使膜材料液滴化后进行涂布并使该膜材料固化,从而形成外缘部,之后,通过在比外缘部更靠内侧的区域,使膜材料液滴化后进行涂布并使该膜材料固化来形成内侧部,由此形成由外缘部及内侧部构成且上表面凹陷的单元层。在单元层之上进一步堆积分别由外缘部及内侧部构成的其他单元层,且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状。 | ||
搜索关键词: | 形成 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种膜形成方法,该方法具有:沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘,使膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化,从而形成外缘部,之后,在比所述外缘部更靠内侧的区域,使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化来形成内侧部,由此形成由所述外缘部及所述内侧部构成且上表面凹陷的单元层的工序;在所述单元层之上进一步堆积分别由所述外缘部及所述内侧部构成的其他单元层,且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状的工序。
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B05 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法
B05C 一般对表面涂布液体或其他流体的装置
B05C9-00 把液体或其他流体涂于表面的装置或设备,所采用的方法未包含在B05C 1/00至B05C 7/00组,或表面涂布液体或其他流体的方法不是重要的
B05C9-02 .对表面涂布液体或其他流体采用B05C 1/00至B05C 7/00中未包含的一个方法,不论是否还使用其他的方法
B05C9-04 .对工件的相对面涂布液体或其他流体
B05C9-06 .对工件的同一个面要求涂布两种不同的液体或其他流体,或者用同一种液体或其他流体涂布二次
B05C9-08 .涂布液体或其他流体并完成辅助操作
B05C9-10 ..在涂布之前完成辅助操作
B05C 一般对表面涂布液体或其他流体的装置
B05C9-00 把液体或其他流体涂于表面的装置或设备,所采用的方法未包含在B05C 1/00至B05C 7/00组,或表面涂布液体或其他流体的方法不是重要的
B05C9-02 .对表面涂布液体或其他流体采用B05C 1/00至B05C 7/00中未包含的一个方法,不论是否还使用其他的方法
B05C9-04 .对工件的相对面涂布液体或其他流体
B05C9-06 .对工件的同一个面要求涂布两种不同的液体或其他流体,或者用同一种液体或其他流体涂布二次
B05C9-08 .涂布液体或其他流体并完成辅助操作
B05C9-10 ..在涂布之前完成辅助操作