[发明专利]曝光装置和器件制造方法在审
| 申请号： | 201410683379.0 | 申请日： | 2014-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN104678713A | 公开（公告）日： | 2015-06-03 |
| 发明（设计）人： | 松冈洋一 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 林振波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置，包括：测量部件，布置在保持基板的基板台上，并处于基板台的基板保持表面侧；辅助部件，布置在基板台的基板保持表面侧，并与测量部件有一定间隙；以及密封部件，接触辅助部件的表面，布置成覆盖所述间隙，并用于抑制测量部件的表面或辅助部件的表面上的液体渗透到间隙中；其中，密封部件具有形成一空间的形状，在该空间中，在液体处于测量部件的表面上且液体接触密封部件的边缘的同时，测量部件的一部分表面接触气体。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其在液体填充在投影光学系统和基板之间的同时对基板曝光，该曝光装置包括：测量部件，布置在保持基板的基板台上，并处于基板台的基板保持表面侧；辅助部件，布置在基板台的基板保持表面侧，并与测量部件有一定间隙；以及密封部件，接触辅助部件的表面，布置成覆盖所述间隙，并用于抑制测量部件的表面或辅助部件的表面上的液体渗透到间隙中，其中，密封部件具有形成一空间的形状，在该空间中，在液体处于测量部件的表面上且液体接触密封部件的边缘的同时，测量部件的一部分表面接触气体。
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