[发明专利]光学设备和成像系统有效
| 申请号： | 201410641036.8 | 申请日： | 2011-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN104360571A | 公开（公告）日： | 2015-02-18 |
| 发明（设计）人： | I·彼得纽斯;Z·莫尔;M·玛格丽特;B·培萨;A·施庞特 | 申请（专利权）人： | 苹果公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 曹瑾 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学设备和成像系统。光学设备包括：半导体衬底；以及边缘发射辐射源，其安装在所述衬底的表面上，以沿平行于所述表面的轴线发射光学射线。反射器，其被安装至所述衬底，位于所述轴线上的一个位置处，并被配置为将所述光学射线反射至成角远离所述表面的方向。一个或多个光学元件，其被安装在所述衬底上，以接收和传输所述反射器反射的光学射线。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 设备 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种光学设备，包括：半导体衬底；表面发射辐射源的第一阵列，所述表面发射辐射源被安装在所述衬底的表面上，以沿各个垂直于所述表面的轴线发射光学射线；以及光学元件的第二阵列，所述光学元件安装在所述第一阵列上方，并对准各个轴线以使每一光学元件接收和传输由各个辐射源发射的光学射线。
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