[发明专利]偏光膜和偏光膜的制造方法有效
| 申请号： | 201410638174.0 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN104635289B | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 后藤周作;山本佳史;池岛健太郎 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C55/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及偏光膜和偏光膜的制造方法。提供的是一种偏光膜，其光学特性优异，并且耐久性和耐水性优异。根据本发明的实施方案的偏光膜包括具有10μm以下的厚度的聚乙烯醇系树脂薄膜。所述聚乙烯醇系树脂薄膜具有6.0wt％以下的碘浓度；并且所述偏光膜具有由以下所示等式定义的交联指数为100至200。(交联指数)＝(薄膜中的碘浓度)×(薄膜中的硼酸浓度)。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种偏光膜，其包括具有10μm以下的厚度的聚乙烯醇系树脂薄膜，其中：所述聚乙烯醇系树脂薄膜具有6.0wt％以下的碘浓度；和所述偏光膜具有由以下所示的等式定义的交联指数为100至200；(交联指数)＝(薄膜中的碘浓度)×(薄膜中的硼酸浓度)，其中，薄膜中的碘浓度和薄膜中的硼酸浓度的单位为wt％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社，未经日东电工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410638174.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种长距离激光能量传输光纤
- 下一篇：彩色滤光基板的制造方法
