[发明专利]一种接近式纳米光刻双光栅自动对准标记

摘要

一种用于接近式纳米光刻双光栅自动对准标记，由分别位于掩模与硅片上的两组对准标记组成，任意一组对准标记由位于中心的圆型光栅与位于四边角的线型拼接光栅组成。任意一组对准标记中间部分为圆型光栅，用于实现粗对准；任意一组对准标记四个边角位置分别为两组周期相邻的线型拼接光栅组成，其中两个上边角为纵向拼接，两个下边角为横向拼接，分别用于在x,y方向上实现精对准。通过两组对准标记可实现掩模与硅片的高精度快速自动化对准。

主权项

一种用于接近式纳米光刻双光栅自动对准标记，由分别位于掩模与硅片上的两组对准标记组成；其特征在于包括：圆型光栅1（1）、线型拼接光栅1（2）、线型拼接光栅2（3）、线型拼接光栅3（4）、线型拼接光栅4（5）、圆型光栅2（6）、线型拼接光栅5（7）、线型拼接光栅6（8）、线型拼接光栅7（9）和线型拼接光栅8（10）；圆型光栅1（1）和圆型光栅2（6）分别位于两组对准标记中心位置，用于实现粗对准；线型拼接光栅1（2）与线型拼接光栅5（7）分别位于两组对准标记左上角位置，用于实现x方向精对准；线型拼接光栅2（3）与线型拼接光栅6（8）分别位于两组对准标记左下角位置，用于实现y方向精对准；线型拼接光栅3（4）与线型拼接光栅7（9）分别位于两组对准标记右上角位置，用于实现x方向精对准；线型拼接光栅4（5）与线型拼接光栅8（10）分别位于两组对准标记左上角位置，用于实现y方向精对准。