[发明专利]废稀土抛光粉回收再生的方法以及稀土抛光液有效
申请号: | 201410590177.1 | 申请日: | 2014-10-29 |
公开(公告)号: | CN104371555B | 公开(公告)日: | 2017-11-10 |
发明(设计)人: | 张海龙;王用堂;张磊 | 申请(专利权)人: | 安阳方圆研磨材料有限责任公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 455000 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种废稀土抛光粉回收再生的方法,所述方法包括以下步骤将废稀土抛光粉与硝酸混合并在溶液底部添加过氧化氢,加热以溶解所述废稀土抛光粉,以得到含稀土元素的溶液;在得到的含稀土元素的溶液中加入氨水调节pH值至5.0~6.0,然后在加热条件下加入过氧化氢,接着加入少量Ce(OH)4的悬浮液,搅拌放置,得到稀土氢氧化物沉淀,然后进行焙烧得到稀土氧化物,然后将所述稀土氧化物研磨至粒径小于2 μm。由上述方法回收再生的稀土氧化物制备得到的稀土抛光液,可以用于玻璃、蓝宝石、树脂镜片以及半导体基片的高精度研磨和抛光工艺,具有抛光效率高、抛光精度高,切削率高的优点。 | ||
搜索关键词: | 稀土 抛光 回收 再生 方法 以及 | ||
【主权项】:
一种稀土抛光液,其特征在于:所述抛光液中含有3~6wt%的稀土氧化物,1.20~1.75wt%的纳米级二氧化铈粉体,10~25wt%的胶体二氧化硅,0.3~0.8wt%的琥珀酸酯或盐,0.5~1.5wt%的阴离子分散剂,和余量的水;其中所述纳米级二氧化铈粉体的粒径为20~100 nm;所述纳米级二氧化铈粉体经过以下步骤的表面处理:(1) 将质量为纳米级二氧化铈粉体8~10wt%的改性剂加入去离子水中,在800~1000 rpm的搅拌速度下搅拌10~15min中形成浓度为1.5~2.0wt%的第一体系;(2) 将纳米级二氧化铈粉体,以及质量为纳米级二氧化铈粉体8~10wt%的丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵在转速为800~1000 rpm的搅拌速度下分散到甲基丙烯酸缩水甘油酯中得到第二体系; 所述甲基丙烯酸缩水甘油酯的质量为纳米级二氧化铈粉体质量的2.5~3.0倍;(3) 将步骤(2)得到的第二体系加入到步骤(1)得到的第一体系中,在1800~2000 rpm的搅拌速度下搅拌20~25 min得到混合液,并转移到反应器中,在N2气氛保护下,持续搅拌加入甲基丙烯酸缩水甘油酯质量0.5~1.0wt%的过氧化二月桂酰,然后在80~85℃的条件下反应2个小时,然后经过过滤、洗涤和干燥即可;所述改性剂为具有以下通式结构的化合物:并且,R为含有10~15个碳的烷基;R'为 (CH2)nSO3Na,并且n为3~5的整数;而所述稀土氧化物通过废稀土抛光粉回收再生的方法得到,并且所述方法包括以下步骤:(1)将废稀土抛光粉加入硝酸溶液,在60~80℃的温度下进行搅拌,然后在溶液底部逐渐滴加双氧水,使得废稀土抛光粉溶解得到含稀土元素的溶液;(2)从步骤(1)得到的含稀土元素的溶液中除去不可溶解的物质;(3) 在步骤(2)得到的含稀土元素的溶液中加入氨水调节pH值至5.0~6.0,然后在加热至50~60℃下加入双氧水,接着加入0.5~2.0 克Ce(OH)4的悬浮液,然后进一步加热至80~85℃搅拌放置3~12小时,得到稀土氢氧化物沉淀;(4)对步骤(3)得到的稀土氢氧化物沉淀在800~1000℃焙烧2~4小时得到稀土氧化物,然后将所述稀土氧化物研磨至粒径小于2μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安阳方圆研磨材料有限责任公司,未经安阳方圆研磨材料有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410590177.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。