[发明专利]用于颗粒力链观测的磨粒约束装置有效
| 申请号： | 201410587436.5 | 申请日： | 2014-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN104330306A | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 曾晰;计时鸣;潘烨;王成湖 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | G01N3/08 | 分类号： | G01N3/08;G01N15/00 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 王兵;黄美娟 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，包括上透明层、下透明层、夹在上下透明层之间的中层磨粒约束模块、多个用于测定磨粒受力状态的应力传感器、控制器，中层磨粒约束模块包括用于容纳光弹颗粒的腔体、挡板、施力机构，腔体侧面带有缺口；挡板安装在腔体缺口处；腔体底部装有施力机构，施力机构的挤压部贯穿腔体的底板后与光弹颗粒接触；上透明板、下透明板、施力机构的挤压部、腔体以及挡板共同围成容纳光弹颗粒的中层封闭容纳腔；中层磨粒约束模块配置多个应力传感器，应力传感器与控制器的信号输入端相连、施力机构与控制器的信号输出端相连。本发明的有益效果在于：适用于针对光弹颗粒的力链采集，并可根据加工对象的不同进行形状的调整。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 颗粒 观测 约束 装置 | ||
【主权项】：
用于颗粒力链观测的磨粒约束装置，其特征在于：包括上透明层、下透明层、夹在上下透明层之间的中层磨粒约束模块、多个用于测定磨粒受力状态的应力传感器、控制器，所述的中层磨粒约束模块包括用于容纳光弹颗粒的腔体、挡板、施力机构，所述的腔体侧面带有缺口；所述的挡板安装在所述的腔体缺口处；所述的腔体底部装有用于挤压光弹颗粒的施力机构，所述的施力机构的挤压部贯穿所述的腔体的底板后与光弹颗粒接触；所述的上透明板、下透明板、施力机构的挤压部、所述的腔体以及所述的挡板共同围成容纳光弹颗粒的中层封闭容纳腔；所述的中层磨粒约束模块配置多个应力传感器，所述的应力传感器与所述的控制器的信号输入端相连、所述的施力机构与所述的控制器的信号输出端相连。
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