[发明专利]一种氧化铝纳米通道薄膜及其制备方法、应用方法有效

专利信息
申请号: 201410582272.7 申请日: 2014-10-27
公开(公告)号: CN104713924A 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: 范霞;王慧敏 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G01N27/26 分类号: G01N27/26;C25D11/12
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 张颖玲;孟桂超
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种氧化铝纳米通道薄膜的应用方法,包括:采用皮安计法确定修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜对应的第一电流;将修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜浸于含有汞离子Hg2+和/或银离子Ag+的溶液中预设时间后,取出;采用皮安计法确定处理后的修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜对应的第二电流;根据第一电流和第二电流,确定修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜能否对汞离子、银离子进行特异性识别。本发明还公开了一种氧化铝纳米通道薄膜及其制造方法。
搜索关键词: 一种 氧化铝 纳米 通道 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种氧化铝纳米通道薄膜的应用方法,其特征在于,所述方法包括:步骤一:采用皮安计法确定修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜对应的第一电流;步骤二:将所述修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜浸于含有汞离子Hg2+和/或银离子Ag+的溶液中预设时间后,取出所述修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜;步骤三:采用皮安计法确定步骤二处理后的所述修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜对应的第二电流;步骤四:根据所述第一电流和第二电流,确定所述修饰含有胞嘧啶和胸腺嘧啶的单链脱氧核糖核酸的氧化铝纳米通道薄膜能否对汞离子Hg2+、银离子Ag+进行特异性识别。
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