[发明专利]一种晶体硅RIE制绒前的表面预处理工艺有效
申请号: | 201410577812.2 | 申请日: | 2014-10-24 |
公开(公告)号: | CN104404627B | 公开(公告)日: | 2017-07-25 |
发明(设计)人: | 邹帅;党继东;王栩生 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10;H01L31/0236 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙)32251 | 代理人: | 陆金星 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种晶体硅RIE制绒前的表面预处理工艺,包括如下步骤(1)超声波预清洗;(2) 采用碱性腐蚀液进行腐蚀;所述碱性腐蚀液为NaOH、NaClO与H2O的混合液;(3)去离子水清洗;(4)采用酸性混合溶液进行清洗;(5)去离子水清洗。本发明采用特制的碱性腐蚀液腐蚀去除线切割损伤层,较现有的强酸体系更容易控制,其工艺方法和设备成本更低;采用本发明的方法制备得到的太阳电池,其开路电压明显提高,电池效率提高了0.25%,取得了意想不到的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体 rie 制绒前 表面 预处理 工艺 | ||
【主权项】:
一种多晶硅RIE制绒前的表面预处理工艺,其特征在于,包括如下步骤:(1) 对原始硅片进行超声波预清洗;(2) 采用碱性腐蚀液对步骤(1)得到的硅片进行腐蚀;温度为25~90℃,反应时间为2~10 min;所述碱性腐蚀液为NaOH、NaClO与H2O的混合液,其中,NaOH的摩尔浓度为1~2 mol/L,NaClO的摩尔浓度为1~2mol/L;(3) 去离子水清洗;(4) 采用酸性混合溶液进行清洗;(5) 去离子水清洗。
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