[发明专利]一种苦玄参的种植方法有效

专利信息
申请号: 201410572783.0 申请日: 2014-10-24
公开(公告)号: CN104303784A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 徐开华;管艳香;马子雄 申请(专利权)人: 丽江华利生物开发药业有限公司
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 674100 *** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种苦玄参的种植方法,包括步骤:(1)繁殖材料培育,(2)整地、除草,(3)种植,(4)田间管理,(5)采收;通过采用本发明的茎块分裂方式培育条件,不仅对土地的要求较低,降低了种植成本,还保证了苦玄参的出苗率,而且培育出的种苗健壮,土壤营养物质充分,种苗生长状态良好,种苗生长成株后抗旱能力、抗病虫害能力强,根系发育速度快,产量高,尤其适用于大规模的种植,具有很高的推广价值。
搜索关键词: 一种 玄参 种植 方法
【主权项】:
一种苦玄参的种植方法,其特征在于:包括步骤:(1)繁殖材料培育,(2)整地、除草,(3)种植,(4)田间管理,(5)采收;所述步骤(1)为直接以苦玄参的种根作为种源;所述的以苦玄参的种根作为种源包括以下步骤:a、对野生苦玄参进行驯化;b、截取驯化后的苦玄参的地下5cm、地上2cm部分的茎干,将茎干在低温3℃~7℃的库房内存放一周;c、取出茎干,将茎干分裂成2~4块;d、将分裂后的茎干用质量浓度为4%~6%的赤霉素浸泡1~2小时后晾干,再用40%~60%ABT生根粉浸泡1小时后取出作为种苗种植;(2)整地:选择海拔2400m~3200m、气温极端高温27℃~29℃、极端低温‑8℃~‑11℃、活动积温2000℃~3200℃、年降雨量700mm~1500mm、空气相对湿度60%~85%、土层深厚、疏松肥沃、向阳、排水性能良好的土壤,种植前一年的12月份前对土壤进行深耕施基肥,耕深30cm~60cm,栽种时再翻耕一次,长度随地形特征而定,并清除杂草、石块等杂物,将土块细碎、疏松后施磷肥,整平后按40cm~60cm宽开畦/垄,相邻的畦/垄之间留20cm~25cm宽的沟,留设排水沟;(3)种植:将畦/垄面按20cm×20cm开穴,深4cm~5cm,每穴种两块,栽入种苗后覆土压实,再淋足定根水,定植后无雨天时每天傍晚浇水一次,直到茎块长出新芽成活;(4)田间管理:①补苗:种苗长出新芽成活至幼苗后,对缺苗处及时补种以确保全苗;②灌溉排水:幼苗成活后加强淋水,保持土壤湿润;幼苗成长成株后,疏通排水沟,严防积水成涝;③中耕除草:种苗种植后不可喷洒除草剂,除草松土每月1~2次,保持土壤疏松、田间无杂草,并稍培土于基部保肥固苗,幼苗长出茎干生长茂盛时,封行不再中耕除草;④追肥:种苗长出新芽后10天开始追肥,或在封行前沟施;(5)采收:种苗长出新芽后,新芽变成茎干后将正常生长,生长一年后根部已发出新的根条,两年后即可采挖,亩产1200㎏左右鲜品,采挖后清水洗净,晾干或烘干即可。
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