[发明专利]一种采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布有效
| 申请号： | 201410539722.4 | 申请日： | 2014-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN104308760A | 公开（公告）日： | 2015-01-28 |
| 发明（设计）人： | 高绮;谷泰弘 | 申请（专利权）人： | 天津市职业大学 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 刘玲 |
| 地址： | 300140*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：由抛光布基材及均匀分布于抛光布基材中的磨料构成，该固定磨料为纳米聚集结构磨料，该纳米聚集结构磨料为由纳米子粒子聚集而成的微米级球形磨料。本发明采用纳米聚集结构磨料，其为由纳米粒子聚集的微米级球形磨料，微米级球形磨料可以使纳米粒子不易陷入粘弹性材料的抛光布基材中，在保证良好的表面光洁度的同时，充分发挥加工作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 纳米 聚集 结构 磨料 固定 抛光 | ||
【主权项】：
一种采用纳米聚集结构磨料的固定磨料抛光布，其特征在于：由抛光布基材及均匀分布于抛光布基材中的磨料构成，该固定磨料为纳米聚集结构磨料，该纳米聚集结构磨料为由纳米子粒子聚集而成的微米级球形磨料。
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