[发明专利]用于清洁洗涤物、尤其是半导体模块的方法和清洁设备

摘要

用于清洁洗涤物、尤其是半导体模块的方法和清洁设备。本发明涉及一种用于将污染物从待清洁的洗涤物去除的清洁设备。该清洁设备包括带有第一收集槽的洗涤物清洁区，带有第二收集槽的气溶胶结合区，带有第三收集槽的冲刷区，以及运送装置。运送装置被构造为将洗涤物从洗涤物清洁区运输到气溶胶结合区中并且之后运输到冲刷区中。洗涤物清洁区被构造为利用清洁流体冲刷洗涤物并将使用过的清洁流体收集在第一收集槽中。气溶胶结合区被构造为将第一冲刷流体引入到气溶胶结合区中并且由此结合处于气溶胶结合区的气氛中的气溶胶并且将带有结合于其中的气溶胶的第一冲刷流体作为废弃流体收集在第二收集槽中并且通过第二收集槽的排放装置清除。

主权项

用于将污染物从待清洁的洗涤物（4）去除的清洁设备（1），其中该清洁设备（1）包括以下各项:带有第一收集槽（15）的洗涤物清洁区（10），带有不同于第一收集槽（15）的第二收集槽（25）的气溶胶结合区（20），所述第二收集槽（25）具有排放装置（24），带有与第一收集槽（15）和与第二收集槽（25）不同的第三收集槽（35）的冲刷区（30），运送装置（5），该运送装置被构造用于，将洗涤物（4）从洗涤物清洁区（10）运输到气溶胶结合区（20）中并且之后运输到冲刷区（30）中，其中洗涤物清洁区（10）被构造用于利用清洁流体（12）冲刷洗涤物（4）并且将使用过的清洁流体（12）收集在第一收集槽（15）中，气溶胶结合区（20）被构造用于，将第一冲刷流体（22）引入到气溶胶结合区（20）中并且由此结合处于气溶胶结合区（20）的气氛中的气溶胶并且将带有结合于其中的气溶胶的第一冲刷流体（22）作为废弃流体（26）收集在第二收集槽（25）中并且将该废弃流体（26）通过排放装置（24）清除；冲刷区（30）被构造用于使待清洁的洗涤物（4）至少部分地摆脱粘附在洗涤物（4）处的剩余的污染物和清洁流体（12）残留，其方式是，利用第二冲刷流体（32）冲刷处于冲刷区（30）中的洗涤物（4）并且将使用过的第二冲刷流体（32）收集在第三收集槽（35）中，并且其中所述清洁设备还具有抽吸装置（27）以用于抽吸处于气溶胶结合区（20）中的气氛组成部分。